产品介绍
2100℃高温真空气氛炉,专为超高温材料研发与小规模精密烧结工艺打造。设备采用高纯金属钨带作为发热元件,配备10层复合金属反射隔热屏(3层钨、2层钼、2层310S、3层304),有效工作区尺寸Φ100×H180 mm,最高工作温度达2100℃(常用2000℃)。标配干式涡旋泵与涡轮分子泵机组,冷态极限真空度≤6.67×10⁻⁴ Pa,支持氩气气氛下高温微正压运行(100–1000 Pa)。炉体采用双层水冷立式真空结构,上开门电动升降,控制柜与炉体一体式紧凑布局,是高校、科研院所及企业研发部门开展超高温真空/气氛热处理的理想设备。
产品特性
2100℃超高温钨带热场
最高工作温度达2100℃(常用2000℃),采用高纯金属钨带作为发热元件,水平圆环形布置于炉膛内。配备10层复合反射隔热屏(3层钨、2层钼、2层310S、3层304),结合99.5%氧化铝陶瓷绝缘件,构建极致纯净的高温热场环境。
高真空与精密氩气联控
标配干式涡旋泵(前级)+ 涡轮分子泵(高真空),冷态极限真空度≤6.67×10⁻⁴ Pa。高温状态(>1600℃)下可精确控制氩气流量与炉内压力(100–1000 Pa),有效减少发热体及反射屏的蒸发损耗。禁止在800℃以上通入氮气。
技术规格
序号 | 技术参数 | 规格信息 |
|---|---|---|
01 | 最高/常用温度 | 2100℃ / 2000℃ |
02 | 有效工作区 | Φ100 × H180 mm |
03 | 热场承载 | 100–2000 g(根据料件及工装确认) |
04 | 加热/总功率 | 40 kW / 40 kW(AC 380V,三相五线) |
05 | 发热元件/隔热 | 高纯钨带(2区)/ 10层反射屏(钨/钼/不锈钢) |
06 | 控温精度/均匀性 | ±1℃ / ±5℃ |
07 | 测温/控温区 | C型钨铼热电偶 / 2区 |
08 | 升温/降温方式 | 最快20℃/min(非线性)/ 水冷降温 |
09 | 真空系统 | 干式涡旋泵 + 涡轮分子泵 |
10 | 极限/工作真空 | ≤6.67×10⁻⁴ Pa / ≤6.67×10⁻³ Pa |
11 | 气路配置 | 氩气(MFC满量程500 sccm),高温微正压运行 |
12 | 控制系统 | 西门子S7-1200 PLC + 岛电FP93 + 10寸触摸屏 |
产品资料与配置清单
类别 | 详细内容 |
|---|---|
炉体结构 | 双层水冷真空炉壳,立式上开门(电动升降),一体式紧凑布局控制柜 |
加热热场 | 钨带发热体,10层金属反射隔热屏,99.5%氧化铝陶瓷绝缘 |
真空气路 | 干式涡旋泵、分子泵、KF法兰、氩气MFC、压力变送器与泄压阀 |
电气冷却 | 英杰IGBT电源、施耐德电器、T2铜排、3P制冷水冷机 |
控制系统 | 西门子PLC、岛电温控仪、10寸触摸屏(支持远程通讯与数据导出) |
定制服务 | 支持热场尺寸、承载工装、气路数量及温控程序的工艺定制 |
应用领域
超高温陶瓷与材料:适用于碳化硅、氮化硅、氧化锆等先进陶瓷及超高温材料的真空/气氛烧结。
硬质合金与粉末冶金:用于高纯金属粉末、硬质合金刀具的高温脱脂与烧结。
半导体与精密实验:面向高校及科研院所的超高真空、超高温精密材料分析与小批量试制。
为什么选择我们
极致超高温热场:2100℃钨带加热与多层金属反射屏设计,热场纯净度高,温度均匀性达±5℃。
高真空与气氛精准护航:分子泵机组实现高真空,高温段精密氩气微正压控制,有效保护发热体。
智能安全控制:IGBT电源匹配PLC+触摸屏全自动控制,实现温度、真空、气路联动与多重安全互锁。
源头厂家定制:提供从热场设计、真空系统到工装夹具的一站式非标定制服务。
常见问题解答
设备的最高温度是多少?常用温度是多少?
最高工作温度可达2100℃,建议常用工作温度为2000℃。真空度和气氛如何控制?
冷态极限真空度≤6.67×10⁻⁴ Pa;高温(>1600℃)时在100–1000 Pa氩气微正压下运行。注意:禁止在800℃以上通入氮气。控温系统有什么特点?
设2个控温区,采用C型钨铼热电偶与岛电FP93温控仪,控温精度±1℃,支持50段程序升温。炉体结构是怎样的?
采用双层水冷立式真空炉壳,上开门配备电动升降机构,炉门使用一体式氟橡胶O形圈密封。有效工作区和承载重量是多少?
有效工作区尺寸为Φ100×H180 mm,热场承载根据料件及工装确认,范围约100–2000 g。
保修条款
设备由源头厂家直供,保证出厂质量与工艺调试。
电炉整机免费保修一年(具体以双方签订的合同/方案文件为准)。
发热元件(钨带)及反射屏等易耗品在正常高温损耗及蒸发条件下不在免费保修范围内。
非人为损坏的质量问题支持售后咨询与处理。